掺钇氧化锆（YSZ）单晶薄膜基片_众铂新材料大全

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     氧化锆（ZrO2）单晶基片是早呗开发应用的高温超导基片之一。由于 ZrO2 需掺入钇（Y）以稳定结构，一般实际使用的是 YSZ 单晶---加入钇稳定剂的氧化锆单晶。它机械、化学稳定性好，价格较低，特别适于用在是阳性薄膜制备工作中。

主要性能参数

晶体结构：立方

晶格常数：a=5.147 ?

熔点（℃）：2700

密度（g/cm3）：6.0

硬度：8-8.5（mohs）

纯度：99.99%

热膨胀系数（/℃）：10.3?10-6

介电常数：ε=27

生长方法：弧熔法

尺寸：10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20，dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm

厚度：0.5mm，1.0mm

抛光：单面或双面

晶向：<001>?0.5?

晶面定向精度： ?0.5?

边缘定向精度：2?（特殊要求可达 1?以内）

斜切晶片：可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜（倾斜角 1?－45?）的晶片。

Ra：≤5?（5?m?5?m）

包装：100 级洁净袋，1000 级超净室

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